What Are the Advantages of TMAH Developer？

Apr. 14, 2025

The Key Choice For Semiconductor Manufacturing - BLi-T

Гидроксид тетраметиламмония (TMAH): ключевой выбор для производства полупроводников

Время выпуска: -03-28

Boyang are exported all over the world and different industries with quality first. Our belief is to provide our customers with more and better high value-added products. Let's create a better future together.

В настоящее время полупроводниковая промышленность стала важнейшим двигателем мировой экономики. От смартфонов, высокопроизводительных компьютеров и систем автономного вождения до 5G-коммуникаций и чипов искусственного интеллекта полупроводниковая технология лежит в основе современных инноваций. В процессе производства чипов ключевой химикат —Гидроксид тетраметиламмония (TMAH) CAS 75-59-2 поставка от БЛИТ Химический— играет незаменимую роль в разработке фоторезиста, травлении кремниевых пластин и передовой микротехнологии.

ТМАХ – Точное травление для производства высокотехнологичных полупроводников

Гидроксид тетраметиламмония (TMAH) — высокоэффективный химикат для влажного травления, широко используемый в обработка полупроводниковых пластин, Производство интегральных схем (ИС) и производство МЭМС. Он обеспечивает точное анизотропное травление кремниевых подложек, гарантируя высокую точность в литографии полупроводников и производстве микроэлектроники. По сравнению с традиционными травителями полупроводников, Поставщик травильного раствора TMAH БЛИТ Химический предлагает следующие преимущества:

● Высокая селективность – точный контроль скорости травления для передовой нанотехнологии
● Низкое загрязнение ионами металлов – идеально подходит для обработки высокочистых полупроводников
● Экологичность и низкая токсичность – более безопасная альтернатива травлению плавиковой кислотой (HF)
● Оптимизировано для производства МЭМС – необходимо для изготовления микродатчиков и приводов

Благодаря этим преимуществам TMAH широко используется в обработке полупроводниковых пластин, травлении панелей TFT-LCD, производстве устройств MEMS и в современных приложениях фотолитографии.

Сверхчистый TMAH – соответствует строгим требованиям к процессу производства полупроводников

В производстве полупроводников малейшие загрязнения могут повлиять на выход годных пластин и производительность устройства. Таким образом, TMAH электронного класса необходим для поддержания точности травления и стабильности процесса.

Гидроксид тетраметиламмония, поставляемый нашей компанией, использует передовую технологию очистки и соответствует стандартам химикатов полупроводникового класса. Значительно снижает загрязнение ионами металлов. Наш высокочистый раствор TMAH оптимизирован для EUV-литографии, производства чипов следующего поколения, передовой очистки пластин и производства фотонных устройств.

Широкое применение ТМАН в электронной и химической промышленности

Благодаря своей сильной щелочности, высокой селективности и контролируемым травильным свойствам TMAH является важнейшим химикатом во многих высокотехнологичных секторах:

● Производство полупроводников – Используется при влажном травлении кремниевых пластин, формировании рисунка ИС и удалении фоторезиста.
● Производство TFT-LCD – Необходим для травления дисплейных панелей и обработки тонкопленочных транзисторов.
● Производство МЭМС и датчиков – Основной материал для кремниевой микрообработки и структурирования устройств MEMS
● Производство печатных плат (ПП) – Применяется при травлении меди и формировании электронных схем.
● Оптоэлектроника и фотоника – Используется в производстве лазерных диодов, обработке волоконной оптики и травлении фотонных кристаллов.
● Химические и фармацевтические исследования – Играет роль в специализированном химическом синтезе и высокотехнологичных лабораторных приложениях.

Эти приложения подчеркивают важность TMAH в полупроводниковых технологиях, нанотехнологиях и микроэлектронике.

TMAH для безопасного и экологически чистого производства полупроводников

Для продукции TMAH мы гарантируем, что наша продукция соответствует строгим экологические нормы и международные стандарты безопасности:

● Экологичная химическая обработка – соответствует принципам зеленого производства для снижения выбросов
● Сертифицированное безопасное обращение и хранение – обеспечивает контролируемую транспортировку и безопасность на рабочем месте.

Почему стоит выбрать BLIT Chemical в качестве поставщика TMAH?

Нашей продукции доверяют производители полупроводниковых пластин и высокотехнологичные производители.

Стабильная цепочка поставок – обеспечение бесперебойных поставок крупных заказов

Техническая поддержка и оптимизация процесса – предоставление консультаций по вопросам эффективности травления и химической совместимости.

Конкурентоспособные цены и быстрая доставка — обслуживание мировой полупроводниковой, ЖК- и МЭМС-индустрии

Независимо от того, являетесь ли вы производителем полупроводниковых пластин, компанией по производству МЭМС, производителем дисплейных панелей или компанией по сборке печатных плат, мы можем предоставить самые надежные решения. БЛИТ Химический Решения TMAH, которые помогут вам в высокоточной микрообработке и производстве микросхем нового поколения.

Контакт БЛИТ Химический информация@blitchem чтобы получить или узнать больше о TMAH.

BLi-T (Hefei) Chemical Co., Ltd. BLi-T International Chemical Co., Limited

ПОДПИСЫВАЙТЕСЬ НА НАС Дом Продукция О нас Преимущество Поддерживать Новости Контакт
ПРОДУКЦИЯ Косметическое сырье Тонкая химия Очистка воды Витамины и аминокислоты Пищевые добавки Растворители Фармацевтическая Сельскохозяйственные химикаты Другие
ПРЕИМУЩЕСТВО Индивидуальное производство и сотрудничество в области разработки рецептур Инновации и НИОКР Эффективно объединяйте логистику и цепочку поставок Профессиональная команда обслуживания

Advanced Monitoring of TMAH Solution - ECI Technology

Authored by Michael MacEwan, Jingjing Wang, Eugene Shalyt, Chuannan Bai, Guang Liang, Vishal Parekh
Presented at the 12th Annual Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces in Brussels, Belgium, .

ECI Technology, Totowa, NJ , USA

Outline

Project Goal
Importance of TMAH in Semiconductor Processing
Analysis Method Development
- TMAH
- Carbonate
- Surfactant
Field Process Data
Conclusion

Project Goals

Develop Metrology to Facilitate Process Improvement and Knowledge for TMAH Solutions.

Chemical Structure of TMAH

Tetra Methyl Ammonium Hydroxide – a non-metallic source of the Hydroxyde ion.

Advantages of TMAH

No alkali metals {Li, Na, K} used as potential contaminant
Used in positive photoresist developers
Anisotropy (111):(100) ~ 1:10 to 1:35
Does not significantly etch SiO2 or Al (bond wire safe)

TMAH Applications – Lithography

It desolves acidic photoresist after exposure

Contact us to discuss your requirements of TMAH Developer. Our experienced sales team can help you identify the options that best suit your needs.

Additional reading:
Questions You Should Know about reinforced AB material catalyst
Maximizing Engine Performance: Essential Oil Additive Insights
10 Essential Chemicals in Electronics That Power Modern Technology

Rate is concentration dependent and slows over time.

TMAH Applications – Etch

Etch rate is effected by TMAH: rate increases at lower concentration.

Methods of Analysis for TMAH

Application requirements are 0.002 wt% accuracy.

Analysis of TMAH – pH

Examples of concentration change on pH:
0.01 wt% change in TMAH ~ 0.1 pH change
0.001 wt% change in TMAH ~ 0.01 pH change

Current on-line techniques (ISFET, Optical) have performance to 0.1 pH units – not enough sensitivity

Analysis of TMAH – Titration

Titration is effected by the presence of carbonate
40ppm CO32- will cause 0.006 wt% error

Analysis of TMAH – NIR

TMAH concentration range from 0-3 wt%

Error is within ±0.015 wt% for all samples – still not enough accuracy to achieve the goal.

Analysis of TMAH – Conductivity

Excellent linearity within process operating range

±0.001 wt% reproducibility and accuracy obtained by temperature correction.

Analysis of Carbonate – Spectroscopy

Surfactant does not interfere with CO32- analysis
Test sample contains trace levels of CO32-
Range of 0-40ppm CO32- is linear

Carbonate absorption in TMAH

CO32- increase significantly in unprotected sample over 14 hours

Analysis of Surfactant – Surface Tension

Surfactant in TMAH solution decreases the ST
ST measurement is not sensitive in 172-175 ppm range.

Analysis of Surfactant – CVS

CVS of TMAH-Surfactant sample – Method is sensitive to low level of surfactant change.

CVS Response for Surfactant Concentration

Increasing surfactant concentration has a stronger effect.

Proposed configuration of Analyzer

TMAH Etch Field Process Data

Conclusion

A comprehensive suite of automated analytical methods has been developed to meet the challenges of modern semiconductor TMAH applications for Sigma Etch and PR development:
TMAH/DI
Carbonate
Surfactant